制药厂用纯水设备报价-弘峻水处理-梅州制药厂用纯水设备

反渗透膜常用的清洗方法及药剂配方

一、反渗透膜元件的污染物在正常运行一段时间后，反渗透膜元个会受到在给水中可能存在的悬浮物质或难溶物质的污染，制药厂用纯水设备报价，这些污染物中常见的为碳酸钙垢、---钙垢、金属氧化物垢、硅沉积物及有机或生物沉积物。

污染物的性质及污染速度与给水条件有关，污染是慢慢发展的，制药厂用纯水设备生产商，如果不早期采取措施，污染将会在相对短的时间内损坏膜元件的性能。

定期检测系统整体性能是确认膜元件发生污染的一个好方法，不同的污染物会对膜元件性能造成不同程度的损害。表中列出了常见污染物对膜性能的影响。

二、污染物的去除污染物的去除可通过化学清洗和物理冲洗来实现，有时亦可通过改变运行条件来实现，作为一般的原则，当下列情形之一发生时应进行清洗。

1、在正常压力下如出水流量降至正常值的10～15%；

2、为了维持正常的出水流量，经温度校正后的给水压力增加了10～15%；

3、出水水质降低10～15%。盐透过率增加10～15%；

4、使用压力增加 10～15%；

5、ro各段间的压差增加明显（也许没有仪表来监测这一迹象）；

反渗透edi纯水设备运行过程中电阻率下降是什么原因？

1、反渗透设备出水不合格（含电导率、硬度、变价金属等）

若是原水含盐量高，建议采用双极ro反渗透设备作为预除盐，其电导率保持在1～3μs/cm为;进水co2含量高，建议采用脱气膜或脱气塔将co2去除。ph偏离中性太多，采用ph调节，使edi进水ph值在7～8即可。在接触空气过程中，高纯水中溶入的---气体致使电导率上升。因此，高纯水的电导率应在线密闭条件下进行检测。

2、edi系统电流控制上出现问题

工作电流增大，产水水质不断变好。但如果在增至点后再增加电流，由于水电离产生的h+和oh-离子量过多，梅州制药厂用纯水设备，除用于再生树脂外，大量富余离子充当载流离子导电，同时由于大量载流离子移动过程中发生积累和堵塞，甚至发生反扩散，结果使产水水质下降。

3、ph值变化

edi系统进水co2含量高，如果co2含量大于10ppm，edi系统就不能制备高纯水了。

4、铁的污染

edi系统运行中的铁污染，是造成其产水电阻进行性下降的主要原因之。如果在原水和预处理系统中，采用普通钢管，没有进行内部防腐处理，会造成系统内铁含量，铁被腐蚀后，溶解在水中大都以fe(oh)2的形式存在，并进一步氧化，变成fe(oh)3。